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Diese Technologie basiert auf Arc Evaportion mittels Pulstechnologie. Dieser Prozess wird in einer reinen Sauerstoff Atmosphäre gefahren. Elektronenemissionen und die Plasmadichte werden durch einen kontrollierten Pulsstrom erhöht.
Mittels P3e Technologie ist es nun möglich sämtliche Aluminiumoxidschichten (Al2O3, ZrO2, Cr2O3, Ta2O5, etc.) herzustellen.
1 Sauerstoff O2
2 Arc-Quellen (Beschichtungsmaterial)
3 Bauteile / Werkzeug
4 Netzteil für gepulste Arc-Verdampfung
5 Netzteil für Hochfrequenzanschluss
6 Vakuumpumpe |
