欧瑞康巴尔查斯涂层

在反应溅射工艺中，待涂的零件先在真空室中加热。随后用氩离子通过轰击进行离子蚀刻。这就使金属表面纯洁干净，无任何原子污染，这是涂层附着的一个重要条件。

然后对包含涂层材料的溅射源加上高负电压。随之而来的电子气体放电形成正氩离子，这些离子在涂层材料方向上加速，然后通过轰击分裂为原子。分裂为原子的金属蒸发颗粒与加入到真空室中的气体（包含要沉积的硬涂层的非金属成分）反应。

结果是具有所需结构和成分的薄而紧密的涂层在基底上沉积。