Le placage ionique est un procédé PVD qui utilise l'évaporation par faisceau d'électrons. Alors que pour la pulvérisation, on se sert d'un bombardement avec de l'argon ionisé pour extraire d'une plaque métallique le matériau à déposer, pour le placage ionique, on a recours à un arc à basse tension pour évaporer le composant métallique de la future couche (titane ou chrome, par exemple).
1 Source du faisceau d'électrons
2 Argon 3 Gaz réactif 4 Substrats
5 Matériau à déposer 6 Creuset (anode) 7 Arc à basse tension 8 Pompe à vide
