PACVD = Plasma-Assisted Chemical Vapour Deposition (dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma)
Pour produire des couches de carbone sans métal, Oerlikon Balzers Coating utilise le procédé PACVD haute fréquence.
L'installation utilisée pour ce procédé est similaire à celle de la pulvérisation. Mais après pulvérisation de la couche métallique, une tension alternative haute fréquence est appliquée.
Lors de l'introduction du gaz contenant les éléments du dépôt, il se produit une décharge gazeuse dans l'enceinte de traitement. Celle-ci crée des atomes de carbone et d'hydrogène (ions et radicaux) qui forment une couche compacte sur les outils et les composants. En faisant varier la tension appliquée, on influe sur les propriétés du dépôt.
1 Argon 2 Gaz réactif 3 Substrats
4 Gaine plasma 5 Connexion haute fréquence 6 Pompe à vide
