W procesie rozpylania jonowego wpierw w komorze próżniowej podgrzewane są części do powlekania. Następnie przeprowadzane jest wytrawianie jonowe powierzchni do powlekania przez bombardowanie jonami argonu. Dzięki temu powierzchnia metalu jest czysta, wolna od zanieczyszczeń atomowych - istotny warunek dla dobrej adhezji powłoki.
Następnie wysokie napięcie ujemne podaje się na źródła rozpylania jonowego, które zawierają materiał powłoki. Uzyskane rozładowanie elektryczne gazu prowadzi do tworzenia się dodatnich jonów argonu, które są przyspieszane w kierunku materiału, rozpylanemu przez bombardowanie. Wyparowane cząstki rozpylonego metalu reagują z gazem, który jest wprowadzony do komory i zawiera niemetalowy składnik osadzanej twardej powłoki.
W rezultacie następuje osadzenie na podłożu cienkiej, zwartej powłoki o wymaganej strukturze i składzie.
1 Argon
2 Gaz reagujący
3 Płaskie magnetronowe żródło parowania (materiał powłoki)
4 Narzędzia, elementy powlekane
5 Sytem pomp próżniowych
|
