PACVD
PACVD = Osadzanie chemiczne z fazy gazowej wspomagane plazmą

                
W celu wyprodukowania powłok na bazie węgla nie zawierjących metalu  firma Oerlikon Balzers Coating wykorzystuje proces PACVD wysokiej częstotliwości.

Aparatura używana w tym procesie jest podobna jak w przypadku rozpylania jonowego. Ale po rozpyleniu metalowej warstewki adhezyjnej doprowadza się napięcie przemienne wysokiej częstotliwości.

Po wprowadzeniu gazu zawierającego pierwiastki powłoki, w komorze następuje wyładowanie elektryczne. Jony i rodniki atomów węgla i wodoru  tworzą gęstą powłokę na narzędziach i elementach. Poprzez zmianę doprowadzonego napięcia można wpływać na właściwości powłoki.
1 Argon
2 Gaz reagujący
3 Narzędzia, elementy powlekane
4 Plazma
5 Połączenie wysokiej częstotliwości
6 Sytem pomp próżniowych
Dodatkowe informacje
Systemy i procesy